3M临时键合方案——应用于半导体先进封装及功率器件

随着摩尔定律的物理扩展,3D集成已经进入主流半导体制造,需要超薄晶圆(小于50微米)来配合多种后端工艺;为应对更高的算力要求,IC制造商已经转向先进封装解决方案,以便在减少空间占用的情况下实现高密度集成。无论是晶圆的深度减薄还是先进封装,都离不开可靠的临时键合解决方案。

我们开发了3M™ 晶圆支撑系统(3M WSS)等解决方案——通过解决关键的耐高温和耐化学性挑战,帮助客户实现先进封装和功率器件制造中的临时键合需求。

用于先进封装的临时键合和解键合

用于先进封装的临时键合和解键合

满足客户的设计需求,利用3M半导体先进封装临时键合和解键合解决方案提升工艺效率。

3M WSS晶圆支撑系统

3M WSS晶圆支撑系统

  • 3M WSS晶圆支持系统

    应用领域:IGBT、FOWLP、LED、MEMS、3D TSV、异构集成

    将晶圆临时键合到玻璃载片上,可提供刚性、均匀的支撑表面,从而最大限度地减少后续加工步骤中晶圆上的应力,从而减少翘曲、开裂、边缘碎裂,并提高产量。

临时键合和解键合的工艺流程

3M WSS轻松助力键合和解键合,每小时的产量可超过22块晶圆。

  • 将硅片粘接到玻璃载体上

    1. 将硅片粘接到玻璃载体上

    • 快速固化,无需热后固化步骤
  • 晶背研磨

    2. 晶背研磨

    • 晶圆研磨后整体厚度偏差(TTV)较小(300mm晶圆的TTV通常为2um)
  • 晶背处理

    3. 晶背处理

    • 良好的耐高温性(高达180摄氏度,持续1小时)
    • 在各种工艺化学制品中具有良好的耐化学性,低放气量
  • 贴晶圆切割胶带

    4. 贴晶圆切割胶带

  • 激光解键合

    5. 激光解键合

  • 玻璃载体剥离

    6. 玻璃载体剥离

    • 无应力
  • 剥去UV胶层

    7. 剥去UV胶层

    • 容易去除,无残留

3M™ 晶圆支撑系统的技术数据表
  • 3M™ 液态UV固化临时键合胶LC3200
    3M™ 液态UV固化临时键合胶LC3200

     

  • 3M™ 光致热离型涂层LTHC
    3M™ 光致热离型涂层LTHC

     

  • 3M™ 晶圆撕膜胶带 3305
    3M™ 晶圆撕膜胶带 3305

     


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