3M™ CMP研磨盘

3M™ 钻石研磨盘，使CMP研磨垫的表面焕然一新，用于一个又一个晶圆，能最大限度减少磨损，并保持一致的粗糙度以及研磨垫性能。其单层钻石网格的间距高度可控，有助于更好预测并优化CMP研磨垫的使用，提高平坦化效率。
 

• 性能受控：可控的钻石间距及突起，带来良好的研磨垫平整性。
• 使用寿命延长：采用3M公司专有的烧结研磨技术，牢牢固定住钻石，并受边缘隔离区保护。
• 可定制：按您喜欢的程度进行修整。

3M™ CMP研磨垫修整毛刷，具有无金属结构以及购买成本低的特点，用于化学机械研磨（CMP）buff工艺及研磨垫清洁应用。
 

• 耐用且无金属：采用3M公司专有的刷子制造技术，刷毛独立固定并均匀分布于刷子表面。
• 非常适用于柔软的CMP研磨垫：刷毛坚硬，可清除多孔毡基垫上的碎屑。
• 低成本：高效清洁研磨垫，有效分配研磨液。