享受对金属敏感工艺的有效调节。3M™ CMP研磨盘涂层是研磨盘上的一层耐用涂层,可以帮助减少高达75%的金属析出。涂层结合强大的3M烧结研磨技术,进一步减少划伤缺陷。
高度工程化定制化的钻石研磨盘,利用烧结工艺,提供极其稳定均匀的钻石排布、锐利度及高度,专为半导体高阶CMP应用提供解决方案
3M™ 钻石研磨盘,使CMP研磨垫的表面焕然一新,用于一个又一个晶圆,能最大限度减少磨损,并保持一致的粗糙度以及研磨垫性能。3M™ 钻石研磨盘采用专有的烧结研磨技术,可以使钻石的寿命更长,牢牢固定住钻石。其单层钻石网格的间距高度可控,有助于更好预测并优化CMP研磨垫的使用,提高平坦化效率。