100多年来,3M与客户合作,开发了创新型过滤和纯化产品,可满足电子和半导体生产不断变化的需求。
超纯水(UPW)主要用于去除晶圆表面可能造成缺陷的污染物,并在晶圆(在各种工艺中)接触化学品后进行冲洗或清洁。
3M的过滤和脱气膜产品可根据需要减少颗粒,并控制溶解气体(O₂和 CO₂),以满足半导体和电子行业的严格要求。
研磨和抛光结合了超细磨料的化学(酸性或碱性)浆液与抛光产生的机械力,可对不平整的区域进行平整。通过严格控制浆液颗粒的尺寸,可实现理想的表面处理效果。
3M提供过滤解决方案,可控制抛光工艺中使用浆液的颗粒尺寸,使晶圆制造商满足相关行业标准。
在湿法加工中,使用溶液对晶圆进行浸染、浸渍或喷洒。随着设备功能不断缩减,确保生产工艺使用的酸、碱和溶剂纯度仍然至关重要。
对于大部分酸、碱、酒精和蚀刻剂,3M都能根据具体化学应用提供合适的过滤器。
工艺冷却水通过循环进入水冷设备。温度循环、夹杂空气、污染物和水质不良都会导致腐蚀、结垢和其他问题,可能抑制正常冷却和/或降低水冷设备的性能。通过适当的水处理工艺,可确保水冷设备在使用中发挥最佳性能。
3M可提供过滤和气体管理解决方案,以控制工艺冷却水回路中的污染物和气体杂质,从而提升运行效率和稳定性。
晶圆生产需要大量的水和化学品,必然会产生大量废水。不同的制造工艺会产生各种废水污染物。
3M可提供过滤解决方案,通过过滤废水来保护环境,同时满足日益严格的排放要求。
3M™ Liqui-Cel™膜接触器设计紧凑,可实现高效的溶解气体控制。这些气体输送装置可向兼容的液体流中添加气体,或去除溶解的气体和气泡,并采用中空纤维膜技术,有助于世界各地的相关设施提高运行效率、性能,同时确保产品质量。
我们的应用工程师将帮助您找到合适的3M过滤及分离解决方案,并根据您的工艺进行产品测试,提供性能数据。