3M™ Trizact™ 研磨垫 HT-800-PC

对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光

与铜盘工艺相比，和3M™Trizact™复合研磨液一起使用，提高了研磨垫的总寿命，改善了平整度(TTV)，去除率高，表面光洁度更好，这是粗研磨步骤的一个不错的选择

替代铜盘工艺，不需要重新对铜盘进行沟槽处理，抛光废料中不含铜

对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光
与铜盘工艺相比，和3M™Trizact™复合研磨液一起使用，提高了研磨垫的总寿命，改善了平整度(TTV)，去除率高，表面光洁度更好，这是粗研磨步骤的一个不错的选择
替代铜盘工艺，不需要重新对铜盘进行沟槽处理，抛光废料中不含铜
研磨垫高度为800微米，研磨垫寿命更长
去除率高，是粗研磨步骤的良好选择
表面光洁度好
平整度好
可以直接安装在平面/光滑的研磨盘上
容易更换的研磨垫

3M™Trizact™研磨垫HT-800-PC是一种用于抛光超硬基材，如碳化硅和蓝宝石的微复制复合研磨垫。

Trizact研磨垫HT-800-PC由压敏胶层和聚碳酸酯芯的微复制表面组成，当与3M™Trizact™复合研磨液结合使用时，可产生良好的表面光洁度，去除率高，是一种经济的抛光解决方案。这种研磨垫可以贴附在典型的单面或双面研磨平台上，是粗研磨步骤的优良选择。

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