3M™ Trizact™ 研磨垫 HT-250

  • 3M ID B5005036184

对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光

与铜盘工艺相比,和3M™Trizact™复合研磨液一起使用,平整度(TTV)改善,去除率提高,表面光洁度更好,这是粗研磨步骤的一个不错选择

替代铜盘工艺,不需要重新对铜盘进行沟槽处理,抛光废料中不含铜

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详细信息

产品亮点
  • 对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光
  • 与铜盘工艺相比,和3M™Trizact™复合研磨液一起使用,平整度(TTV)改善,去除率提高,表面光洁度更好,这是粗研磨步骤的一个不错选择
  • 替代铜盘工艺,不需要重新对铜盘进行沟槽处理,抛光废料中不含铜
  • 研磨垫寿命长
  • 良好的平整度TTV
  • 高去除率
  • 表面光洁度好
  • 粗研磨步骤的良好选择
  • 容易更换的研磨垫
  • 可以直接安装在平面/光滑的研磨盘上

3M™Trizact™研磨垫HT-250是一种用于研磨硅晶圆的微复制研磨垫,用于抛光超硬衬底,如蓝宝石,碳化硅和陶瓷。

用于粗研磨工艺步骤,Trizact研磨垫HT-250与3M™Trizact™复合研磨液结合使用。可贴附在单面或双面研磨盘上。

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品牌 Trizact™
基材 氮化硅, 氮化镓, 砷化镓, 硅铝, 碳化硅, 蓝宝石, 钽酸锂
应用 划痕修复, 抛光, 研磨, 精加工
应用场合 半导体晶圆, 超硬基材
研磨矿砂类型 钻石
粒度 粗糙

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