3M持续探索并为众多产业提供创新的解决方案,帮助解决世界各地的问题。
对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光
与铜盘工艺相比,和3M™Trizact™复合研磨液一起使用,平整度(TTV)改善,去除率提高,表面光洁度更好,这是粗研磨步骤的一个不错选择
替代铜盘工艺,不需要重新对铜盘进行沟槽处理,抛光废料中不含铜
3M™Trizact™研磨垫HT-250是一种用于研磨硅晶圆的微复制研磨垫,用于抛光超硬衬底,如蓝宝石,碳化硅和陶瓷。
用于粗研磨工艺步骤,Trizact研磨垫HT-250与3M™Trizact™复合研磨液结合使用。可贴附在单面或双面研磨盘上。
当前产品