3M™聚酯双面胶带442KW

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用于半导体制造化学机械平坦化CMP工艺中,抛光垫与载盘的贴合固定

橡胶型胶粘剂可提供快速, 可靠的粘接强度,并可洁净移除

胶粘剂涂布于薄膜基材的双面,可实现与抛光垫的有效层压贴合,并可从载盘上洁净移除

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详细信息

产品亮点
  • 用于半导体制造化学机械平坦化CMP工艺中,抛光垫与载盘的贴合固定
  • 橡胶型胶粘剂可提供快速, 可靠的粘接强度,并可洁净移除
  • 胶粘剂涂布于薄膜基材的双面,可实现与抛光垫的有效层压贴合,并可从载盘上洁净移除
  • 同样适用于 HDD 和玻璃制造中将抛光垫贴附到载盘上的应用
  • 聚酯薄膜基材有助于提升操作便利性,实现均匀施贴
  • 离型纸可增强尺寸稳定性,从而实现快速高效的转换加工

3M聚酯双面胶带442KW采用橡胶型胶粘剂,适用于半导体CMP抛光垫的层压贴合,并可从抛光盘上实现洁净移除。薄型聚酯(PET)薄膜基材有助于胶粘剂与抛光盘及抛光垫实现牢固粘接。聚乙烯覆膜的离型纸具有优异的尺寸稳定性。

  • close up of a gold semiconductor wafer

    半导体CMP应用优选胶粘剂

    3M™ 聚酯双面胶带 442KW 采用 3M™Adhesive 830 橡胶型胶粘剂系统,兼具良好的粘接力、耐温性和耐溶剂性,可对多种材料实现快速初粘。本款双面胶带非常适用于半导体 CMP 应用,可轻松贴合于抛光垫,并可从多种表面实现洁净移除,特别适合用于半导体载盘。

规格

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