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对碳化硅和陶瓷等超硬基材进行有效研磨和抛光
与铜盘工艺相比,使用3M™Trizact™研磨垫,总厚度变化(TTV)更小,去除率更高,表面光洁度更好
去除率高,表面光洁度好,是精细研磨/pre-CMP步骤的良好选择
3M™Trizact™复合研磨液DE-100是一种低粘度研磨浆料,用于精加工超硬基材,如碳化硅。当与3M™Trizact™研磨垫一起使用时,这种浆液提供了最高的性能。
Trizact复合研磨液DE-100由一种独特的纳米级金刚石复合材料组成,具有优异的表面光洁度和良好的去除率,适用于精细研磨和化学机械抛光(CMP)之前的工艺步骤。它与水混溶,易于清洁。
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