半导体行业个人防护解决方案

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半导体是现代电子产品不可或缺的核心部件。在这些精密制造的背后,因相关制程和工艺需要,半导体制造过程中普遍使用大量化学品,其中不乏高毒、致癌、腐蚀性等高危害化学品,常见如:砷化氢、磷化氢、氨气等特种化学气体;硫酸、盐酸、氢氟酸等各类腐蚀性化学品;显影液中四甲基氢氧化铵(TMAH)等高毒物质;异丙醇、乙醇、丙酮等有机溶剂等化学品。

这些化学品接触藏在特气更换、设备维保作业、紧急响应及厂务巡检这些日常作业工序里。如作业过程中未做好个人防护,可能会对作业人员的健康造成较大损害。

半导体行业常见的4大作业场景


半导体生产-特气更换

场景:特气作业人员更换气瓶

在半导体芯片沉积、蚀刻、离职植入等工艺过程中,常会使用种类繁多的特种化学气体,如:砷化氢/磷烷/硅烷/氩气/氮气/氟气/氨气/氟化碳/溴化氢等,其毒性和危害较大。相关作业人员在特种气体更换过程中可能会面临这些高毒或腐蚀性化学品喷溅等意外接触的风险,需做好职业个体防护以保障作业人员健康和安全。

以下方案仅为有限举例,具体防护方案和参数可咨询3M技术服务:


半导体生产-紧急应变中心(ERC)应急响应

场景:应急响应处置

芯片生产工厂需确保生产的连续性,其‌紧急应变中心常备应急处置人员(ERC, Emergency Response Center)‌,主要承担应对半导体制造中高风险的火灾、化学品/特种气体泄漏及公用设施故障等突发事件处置,其需要配备高品质的应急响应个人防护装备。

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半导体生产-设备维保作业

场景:设备维护和保养

设备维保人员为‌保障各工艺段芯片机台持续运行‌,需定期对设备进行预防性维修或故障修复。当打开机器进行维修或保养时,面临常见酸/碱/有机蒸气或砷化氢/显影液TMAH等高毒化学品接触或吸入风险。例如:设备维保人员在进行微影工艺设备维护或换液作业过程中,可能会面临高毒物质四甲基氢氧化铵(TMAH)的意外接触,其是显影液主要成分之一。其吞食及与皮肤接触可能会致命,意外接触可能会导致严重的皮肤灼伤和眼睛损伤。

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半导体生产-厂务巡检

场景:厂务水电气等公用工程区域巡检

芯片半导体生产过程中厂务需日常巡检公用工程水/电/气/暖通及废气废水处理‌等区域,监控这些支持系统的运行状态。常见危害有各类有机蒸气和酸性气体异味,及潜在的眼面部危害,其中泵区和废气处理系统区噪声超标严重,一定要佩戴护听器。

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