3M™ Betapure™ CMP系列滤芯和滤囊

3M™ Betapure™ CMP 系列滤芯和滤囊高容污能力深层过滤器可以很好的用于化学机械抛光（CMP）制程中用到的oxide和metal slurry。3M™ Betapure™ CMP过滤器采用全聚丙烯材质，采用多区域渐紧式孔隙设计，可达到优异的颗粒分级水平。这种结构流量特性有所加强，而且压力损失很低，从而尽量减少浆料的剪切效应，同时实现卓越的使用寿命。

3M Betapure CMP 滤材通过特殊设计的渐紧孔隙结构，具有低的压降和高的截留效率，可以去除大颗粒的同时，不改变有效颗粒或固含量，不会改变slurry的抛光性能。